離子束濺射（IBS）是一種在高真空環(huán)境下通過準(zhǔn)直離子束轟擊靶材實現(xiàn)薄膜沉積的物理氣相沉積技術(shù)。該工藝?yán)秒x子源產(chǎn)生的單能離子束轟擊靶材表面，使靶材原子以高動能濺射至基片表面形成致密薄膜。相較于傳統(tǒng)濺射技術(shù)，其優(yōu)勢在于可通過調(diào)節(jié)離子束能量和束流密度精確控制薄膜厚度與微觀結(jié)構(gòu)。 IBS 系統(tǒng)的典型配置包括基板、靶材和網(wǎng)格離子源以及精密真空系統(tǒng)，通過擋板機構(gòu)實現(xiàn)預(yù)轟擊與主沉積的工藝切換。技術(shù)特性體現(xiàn)在低溫沉積（15-300℃）、高附著力、優(yōu)異均勻性（薄膜厚度誤差＜±1%）等方面，與其他PVD技術(shù)相比，離子束濺射?更精確，可以精確控制襯底的厚度。適用于金屬、氧化物及高熔點材料薄膜制備等。 當(dāng)前該技術(shù)已廣泛應(yīng)用于紫外光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體器件涂層、耐磨防護層等高端制造領(lǐng)域 青島鐳創(chuàng)/青島鐳視使用離子束濺射 (IBS) 沉積的光學(xué)鍍膜，反射率 >99.99%，受溫度、濕度等環(huán)境因素影響較小，表面粗糙度不再受鍍膜限制，涵蓋 266-1600nm 波長范圍，超快鍍膜的群延遲色散 (GDD) 控制，這種鍍膜技術(shù)具有很高的可重復(fù)性，非常適用于高反射率反射鏡、超快反射鏡，以及具有急劇過渡的濾光片。